�。ㄒ唬┏暺嗲逑词前殉暡ǖ目栈c有機溶劑的理化作用，有機結合起來的一種清洗技術。清洗過程中，工作并不浸在清洗劑中，而是懸在溶劑蒸汽層中汽相清洗，利用清洗劑上的凝露與探測器表面污物發生溶解作用，并在重力作用下將污物帶走，有效的避免了二次污染，（常規清洗從液體中提出時，存在污物再次沾污清洗物的現象），這對要求高阻抗表面的探測器電離室基座來講，提供了可靠的保證。

 

　�。ǘ�探測器在清洗線上，經過熱浸－超聲－噴淋－TES超聲－脫水－TES汽相－靜電處理共計7步嚴格的清洗工序，其中氟碳脫水工藝和TES汽相清洗工藝，均為精密清洗手段，清洗質量由先進的工藝裝備提供，由嚴密的工藝控制得到，保證清洗后探測器的電離室潔凈度水平。

 

　　二、探測器運行兩年后為什么要進行清洗

 

　�。ㄒ唬┨綔y器投入運行兩年后，應每隔1年全部清洗一遍，并作響應閾值及其它必要的功能試驗，合格者可繼續使用，不合格者嚴禁重新安裝使用。

 

　�。ǘ┨綔y器投入運行后容易受污染，積聚灰塵，使可靠性降低，產生誤報或漏報。清洗次數應根據具體環境條件而定。我國南方多雨潮濕，容易凝結水珠；北方干燥，多風沙天氣，容易積聚灰塵。不同使用場所，環境狀況相差也很遠。工廠、倉庫、飯店（如廚房）容易受到污染，辦公樓、賓館環境條件好，受污染程度小些；同一建筑物內部，因安裝場所不同，受污染程度也不同。容易受到污染的探測器，清洗周期宜短，不容易受到污染的探測器，清洗時間可適當長些。但不管什么場合，投入運行兩年后，都應每隔1年進行一次清洗。

 

　�。ㄈ�探測器的清洗要由專門單位進行，使用單位不要自行清洗，以免損傷探測內部和降低靈敏度。